冠亞制冷TCU溫控系統可實現-120度~300度的動態控溫，TCU溫控系統采用現有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初級系統”）基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統或二級回路中。這就完成了只有一種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中（而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體），通過運算控制整個反應過程溫度。

ZLF系列——直通式控流量參數

ZLF-N系列采用主冷源/或主熱源通過比例調節系統流量，控制進入反應釜夾套的熱量，同時還有一組用于加熱或冷卻的換熱器控制升溫或降溫。具備ZLF-N功能外，ZLF- NS增加一組換熱器用于高溫降溫功能；ZLF- NH增加電輔助加熱功能；ZLF- NSH增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

SR系列——采用二次換熱

控溫范圍：-120°C to +250°C

SR系列采用一組冷卻換熱器，一組加熱換熱器，通過比例調節閥控制冷熱量進入到換熱器，再通過統一介質輸入到反應釜夾套進行換熱控溫，系統內置有膨脹罐。具備SR- N功能之外，SR-NS系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能；SR-NH系列增加電輔助加熱功能；SR-NSH系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

TCU溫度控制單元優勢

• 用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫；
• 避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小；
• 內置電加熱導熱油輔助系統，可根據需求自動開啟輔助加熱系統，降低蒸汽使用壓力；
• 可以通過快速運行準確配比各熱量需求，達到節約能源目的；
• 通過準確快速運算控制整個反應過程溫度，對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制；
• 預留有標準化接口，可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊；
• 可選擇控制反應過程溫度和單流體溫度，同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的；
• 可進行配方管理與生產過程記錄；

集散溫度控制系統——化學合成工藝過程控制系統

DCS集散式自動控制系統應用計算機控制技術，可以使制藥生產的工藝操作和參數得到科學的、有效的、嚴格的監測和控制，實現制藥生產的連續化和自動化。

本方案基于先進的過程控制系統SIMATIC PCS 7設計是參考新版GMP藥品生產質量管理規范中對實時放行檢測及國際制藥工程學會（ISPE）提出的產品生命周期實施的先進理念，建立制藥生產全過程質量監控體系，實現從原料至成品的生產全過程質量管理，使得藥品生產過程數字化、規范化、并具備數據可追溯性功能和預警功能，全面提高制藥生產質控水平。

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