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請搜索 制冷加熱控溫系統 超低溫冷凍機 制冷加熱控溫控流量系統(汽車防凍液) 制冷加熱控溫系統(氣體) TCU控溫單元

TCU控溫單元

TCU溫度控制單元

 

無錫冠亞TCU溫控系統可實現-120度~300度的動態控溫,TCU溫控系統采用現有的熱能(如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初級系統”)基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統或二級回路中。這就完成了只有一種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中(而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體),通過運算控制整個反應過程溫度。

 

ZLF系列——直通式控流量參數

 

ZLF-N系列采用主冷源/或主熱源通過比例調節系統流量,控制進入反應釜夾套的熱量,同時還有一組用于加熱或冷卻的換熱器控制升溫或降溫。具備ZLF-N功能外,ZLF- NS增加一組換熱器用于高溫降溫功能;ZLF- NH增加電輔助加熱功能;ZLF- NSH增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

 

型號ZLF系列
溫度范圍?-45°C ~ +250°C

 


 

SR系列——采用二次換熱

 

控溫范圍:-120°C to +250°C

SR系列采用一組冷卻換熱器,一組加熱換熱器,通過比例調節閥控制冷熱量進入到換熱器,再通過統一介質輸入到反應釜夾套進行換熱控溫,系統內置有膨脹罐。具備SR- N功能之外,SR-NS系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能;SR-NH系列增加電輔助加熱功能;SR-NSH系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

型號SR系列
溫度范圍-120°C ~ +250°C

 


ST系列——熱水加熱系統

控溫范圍:10°C to +135°C

應用:在醫藥、化工企業的工藝生產中需要采用蒸汽加熱,實現工藝保溫或對工藝進行熱水循環加熱。為滿廣大客戶需要,根據我們多年設計生產經驗,特設計由蒸汽作為熱源、常溫水作為水源的熱水控溫裝置。

型號ST系列
溫度范圍+10°C ~ +135°C

 


集散溫度控制系統——化學合成工藝過程控制系統

DCS集散式自動控制系統應用計算機控制技術,可以使制藥生產的工藝操作和參數得到科學的、有效的、嚴格的監測和控制,實現制藥生產的連續化和自動化。

本方案基于先進的過程控制系統SIMATIC PCS 7設計是參考新版GMP藥品生產質量管理規范中對實時放行檢測及國際制藥工程學會(ISPE)提出的產品生命周期實施的先進理念,建立制藥生產全過程質量監控體系,實現從原料至成品的生產全過程質量管理,使得藥品生產過程數字化、規范化、并具備數據可追溯性功能和預警功能,全面提高制藥生產質控水平。

型號集散溫度控制系統
溫度范圍集散式控溫系統

 

TCU溫度控制單元優勢? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

  • 用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫;
  • 避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小;
  • 內置電加熱導熱油輔助系統,可根據需求自動開啟輔助加熱系統,降低蒸汽使用壓力;
  • 可以通過快速運行準確配比各熱量需求,達到節約能源目的;
  • 通過準確快速運算控制整個反應過程溫度,對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制;
  • 預留有標準化接口,可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊;
  • 可選擇控制反應過程溫度和單流體溫度,同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的;
  • 可進行配方管理與生產過程記錄;

無錫冠亞恒溫制冷提供7*24的免費咨詢,您只需要提供自己控溫需求,由我們給你提供全面的解決方案!

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【熱門推薦】制冷加熱動態控溫系統? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??

 

SUNDI系列制冷加熱控溫系統

控溫范圍:-120°C ~ +350°C

特點:不僅可以控制導熱介質溫度,還可以控制反應物料溫度

應用:各種反應器(微通道、玻璃、夾套反應器等)、蒸餾或萃取系統、實驗室、大學、研究所、航空航天、汽車工業、半導體和電氣測試、化學、制藥、石化、生化、醫療、醫院、研發車間、航空航天和生物等行業。

型號SUNDI-320/420w/430wSUNDI-1系列SUNDI-2系列SUNDI-3系列SUNDI-5系列SUNDI-6系列SUNDI-7系列SUNDI-8系列SUNDI-9系列 SUNDI-10系列
溫度范圍-40 ~ +200°C-10 ~ +200°C-25 ~ +200°C-25 ~ +300°C-45 ~ +300°C-60 ~ +250°C-70 ~ +250°C-80 ~ +250°C-90 ~ +250°C-100 ~ +100°C

 

制冷加熱控溫系統典型應用? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

 

  • 高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制
  • 雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制
  • 雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制
  • 微通道反應器冷熱源恒溫控制
  • 小型恒溫控制系統、蒸餾系統控溫
  • 材料低溫高溫老化測試
  • 組合化學冷源熱源恒溫控制
  • 半導體設備冷卻加熱
  • 真空室制冷加熱恒溫控制

 

溫度過程控制原理(控制反應釜物料)? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??

1、改變控制設定值的方法,能夠盡快的響應過程中的系統滯后,得到較小的系統過沖??刂朴蓛山MPID(每組PID是可變的)控制回路構成,這兩組控制回路稱為:主回路和從回路,主回路的控制輸出作為從回路的設定值。系統采用帶有前饋PV ,主控回路的PID運行結果的輸出與前饋PV信號復合后作為從控制回路的設定值,通過這樣對溫度變化梯度控制,保證系統控溫精度。(一般抗滯后串級控制)

2、專門設計的滯后預估器(無模型自建樹算法)產生一個代替過程變量y(t)的動態信號yc(t)來作為反饋信號。對控制器產生一個e(t)信號,使控制器預判控制作用沒有大的滯后,這樣控制器總是能夠產生一個合適的控制信號。也就是說,即使存在大滯后,這個動態信號yc(t)也能保持反饋回路正常工作.而用一般PID來控制具有顯著時間滯后的過程,則控制器輸出在滯后時間內由于得不到合適的反饋信號保持增長,從而導致系統響應超調大甚至使系統失控。

3、通過三點采樣(物料溫度點、溫控系統出口溫度、溫控系統進口溫度),通過我們公司自創無模型自建樹算法和一般抗滯后串級算法相結合。

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